一、多晶硅废水来源

在光电、半导体产业中，需要将单质硅体切割成符合要求的硅片，目前多晶硅主要是采用多线切割技术因此在切割过程中需要不断地排出旧切削液，在切割过程中约50% 的硅料混进由聚乙二醇( PEG) 切削液和碳化硅粉( SiC) 磨料组成的切削液中并不断补充新切削液，这样将就产生了大量的切割废液。

二、多晶硅废水特点

多晶硅生产过程中的废水，主要为无机废水，主要含有硅、氯、金属离子等，一般盐浓度较低，水量大，不具备直接蒸发结晶的条件，如实现零排放，需要采用联合蒸发技术，则能够降低设备投资，运营费用，并实现环保零排放的要求。

三、多晶硅废水处理工艺

目前国内在多晶硅生产过程中一般可采用薄膜蒸发器，三效蒸发器和MVR蒸发器等设备用于处理盐类废水。它们都是利用蒸发浓缩的原理将废水中的水蒸发出去，NaCl冷凝结晶出来以实现废水的有效分离。

1、薄膜蒸发器工作原理

薄膜蒸发器是一种现代化的高效蒸发器，需要真空操作，通过旋转的刮膜器强制成膜，并在高流速下进行流动。这种方法停留时间短，传热效率高。在此过程中，连续进料在加热面被刮膜器持续不断地刮成厚度均匀的液膜，随之液膜向下移动，在向下流动的过程中残留物从底部被排出，而低沸点的组分就会被蒸发出，进入大气中。

2、三效蒸发器的工作原理

三效蒸发器采用串联的方式。一蒸发器产生的二次蒸汽为利用其蒸发潜热，将热量引入到二蒸发器的入口处。一蒸发器的二次蒸汽冷凝处即为二蒸发器的进口加热处。只要控制好各蒸发器的压力分配，即可实现这种操作。通入加热蒸汽的一蒸发器为一效，二蒸汽通入的一蒸发器为二效，依次下一次二次蒸汽通入的蒸发器为三效。

3、MVR蒸发器工作原理

机械蒸汽再压缩技术（Mechanical Vapor Recompression，以下简称“MVR")是在微真空状态下通过机械驱动的压缩机将蒸发器产生的二次蒸汽压缩至较高压力提高其品质，二次蒸汽进入蒸发器循环将待处理溶液或废水进行低温蒸发处理，其核心是利用系统产生的二次蒸汽的潜热进行加热，蒸发回收水资源，实现热量的循环利用。内置式MVR装置是将蒸汽压缩装置设置在蒸发室内部，集成设计为一体化设备，减少了占地面积和投资成本。该技术主要用于化工、食品、制药、海水淡化等领域的含盐废水处理，不仅能回收水资源，而且结合后续结晶处理可实现废水零排放。

多晶硅生产的废水零排放将成为必然，可以通过膜浓缩预处理，结合蒸发工艺（如：机械蒸汽再压缩蒸发、多效蒸发等），根据水质要求，联合离子交换吸附，将能够较为经济的实现废水零排放。